[20p-C32-1~11] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

1:00 PM - 1:15 PM JST(4:00 AM - 4:15 AM UTC)

[20p-C32-1] Damp heat stability of the refractive index of Cat-CVD Si nitride films formed at a high deposition rate

〇Keisuke Ohdaira¹, Huynh Thi Cam Tu¹ (1.JAIST)

Keywords:

silicon nitride,refractive index,Cat-CVD

Cat-CVDで高速堆積した窒化Si膜の湿熱環境での屈折率安定性を評価した。堆積速度を60 nm/minまで高めた膜においても、20 nm/minの低速で堆積した膜と同様、85 °C、湿度85%RHでの湿熱試験2000時間後の屈折率変化を1%未満に抑えられており、高い屈折率安定性が示された。太陽電池モジュールの高い色調安定性や、ペロブスカイト膜への熱損傷抑制などの効果が期待される。