講演情報
[10a-C310-14]歪みを活かしたSrLiH3エピタキシャル膜の成長制御と高ヒドリドイオン伝導
〇(D)福士 英里香1、和田 望1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.NIMS)
キーワード：
水素化物、ヒドリド伝導、エピタキシャル薄膜
ペロブスカイト水素化物SrLiH3は、安定かつ電子伝導の小さい有望なH−伝導体であるが、デバイス応用には伝導率向上が必要である。本研究では、界面応力による格子歪みを利用した高H−伝導化を目指し、膜厚・成膜速度の異なるエピタキシャル膜の結晶構造と伝導率を比較した。成膜初期に生じる未同定相を含む成長状態が伝導率を左右する可能性を示し、歪みを活かす成長制御指針を議論する。