[10p-B11-1~17] 3.10 フォトニック構造・現象

16:30 〜 16:45

[10p-B11-11] キラルフォトニック結晶接合に生じる界面光局在状態の理論解析

〇高橋 克拓¹、吉田 翔野¹、若林 克法² (1.関学大理工、2.物材機構)

キーワード：

フォトニック結晶、キラリティ

キラリティの異なるジャイロイド構造を接合したフォトニック結晶における電磁場状態を理論的に解析する．フォトニックバンドギャップ内に，接合界面近傍へ局在した光学状態が出現することを示す．さらに，得られた電磁場分布を解析し，界面局在状態の空間的特徴と形成機構を議論する．