講演情報
[10p-C309-14]合成時のH2O添加量がメチル基終端ゲルマナンの構造および光学特性に及ぼす影響
〇工藤 大夢1、伊藤 佑太1,2、中嶋 海都3、黒澤 昌志3、中塚 理3,4、小椋 厚志1,5 (1.明治大理工、2.学振特別研究員DC、3.名大院工、4.名大未来研、5.明大MREL)
キーワード：
二次元材料、ゲルマナン
メチル基終端ゲルマナン（GeCH3）は、高い正孔移動度（約400 cm²/Vs）と優れた熱安定性を有することから、次世代電子デバイス材料として注目されている。一方、合成条件が構造および光学特性に与える影響は十分に理解されていない。本研究では、合成時のH2O添加量を変化させて作製したGeCH3薄膜についてラマン分光測定およびPL測定を行い、構造と光学特性への影響を評価した。