講演情報
[10p-E208-5]室温スパッタ成膜による三方晶Teナノフラワーの作製
〇(M2)土橋 裕太1、山澤 隼1、中岡 俊裕1 (1.上智理工)
キーワード：
カルコゲナイド
Agがカルコゲナイド中を移動する異常拡散は、広い応用を持つ現象として研究されている。我々はAg-Te系材料に着目し、Ag微粒子からの異常拡散に基づく柱状の直方晶AgTeやアモルファスAg2Teナノロッドの作製を報告した。今回、Ag供給源としてターゲット材のみを用い、異常拡散を利用した室温スパッタリングによる三方晶Teナノフラワーの作製について報告する。作製した試料の高さは約5 µmであり、下部から上部に向かうにつれてTe-richな組成となることが分かった。