[10p-E215-1~15] CS.10 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

15:45 〜 16:00

[10p-E215-9] 多段階成長プロセスによるFeシリサイドコア/Siシェルドットのサイズ制御と発光特性評価

〇矢野 瑛汰¹、今井 友貴¹、山本 裕司^1,2、Markus Andreas Schubert²、牧原 克典^1,2 (1.名大院工、2.IHP)

キーワード：

Feシリサイド