セッション詳細
[10p-E215-1~15]CS.10 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション
2026年9月10日(木) 13:30 〜 17:45
E215 (総合教育棟 E棟)
座長: 津田 泰孝(原子力機構)、大野 真也(横国大)、 中村 芳明(阪大)
[10p-E215-1][Invited Talk] Enhanced Low-Temperature Crystallization of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films through H2O2 Oxidation and Exposure Control in ALD
〇Haoming Che1, Takashi Onaya1,2, Atsushi Tamura1, Masaki Ishii3, Hiroshi Taka3, Koji Kita1 (1.Dept. of Adv. Mater. Sci., The Univ. of Tokyo, 2.NIMS, 3.Nippon Sanso)
[10p-E215-5]光電子制御プラズマCVDによる炭素膜の温度依存成長と価電子帯構造
〇(B)上田 槙之介1、初見 英俊1、佐藤 元伸1、二瓶 瑞久1,2、小川 修一1 (1.日大生産工、2.エヌラボ)
[10p-E215-7]Si表面酸化の非線形酸素分圧依存:p-Si(001)とn-Si(001)の比較
〇岡部 優希1、津田 泰孝2、Wen Hengyu1、吉越 章隆2、高桑 雄二3、小川 修一1 (1.日本大、2.原子力機構、3.東北大)
[10p-E215-9]多段階成長プロセスによるFeシリサイドコア/Siシェルドットのサイズ制御と発光特性評価
〇矢野 瑛汰1、今井 友貴1、山本 裕司1,2、Markus Andreas Schubert2、牧原 克典1,2 (1.名大院工、2.IHP)
[10p-E215-10]EUV光源応用に向けたSnデブリ堆積形態の材料および温度依存性評価
〇鈴木 貴之1、本田 能之1、横田 大樹2,3、永井 伸治1、平田 祐樹3 (1.ギガフォトン株式会社、2.鳥取大学、3.東京科学大学)
[10p-E215-11]CVDグラフェンドメイン分布の光電子運動量顕微鏡を用いた自動解析
田中 慎一郎1、菅 滋正1、染井 裕貴2、佐藤 祐輔2、松井 文彦2、今堀 樹3、青柳 良英3、〇大野 真也3 (1.阪大産研、2.分子研UVSOR、3.横国大院理工)
[10p-E215-13]アナターゼ型TiO₂光触媒の水蒸気雰囲気下における電子構造ダイナミクスの常圧HAXPES観察
〇(M2)村瀬 啓太1、宮崎 秀俊1、水野 丈二1、高木 康多2、安野 聡2、Juhana Jaafar3、吉田 奈央子4 (1.名工大、2.JASRI、3.UTM、4.名大)
