[10p-E310-1~11] 低温プラズマによる半導体加工の未来

17:35 〜 17:45

[10p-E310-11] クロージング

〇榊田 創¹、栗田 弘史² (1.名城大理工、2.豊橋技術科学大工)

キーワード：

低温プラズマプロセス、先端半導体製造、AI活用プロセス最適化