講演情報
[11a-N302-3]ITO/(100)YSZ基板上に作製した単斜晶CaTaAlO5薄膜のエピタキシャル成長と面内方位解析
〇(M2)砂岡 裕基1、安井 伸太郎2、谷口 博基3、江原 祥隆1 (1.防衛大、2.科学大、3.名大)
キーワード：
スパッタリング、チタン石
チタン石型酸化物ABMO5は、近年報告された分極‐電場(P-E)曲線のダブルヒステリシスに由来する、優れたエネルギー貯蔵特性から注目されており、我々はこれまでにYSZ基板上にエピタキシャル成長した単斜晶CTA薄膜が得られることを報告した。そこで、本研究では作製した薄膜の詳細な結晶構造解析を実施し、エピタキシャル成長メカニズムの解明と結晶方位依存性および誘電特性に関して評価を行った。