講演情報
[11p-E217-7]パルスレーザーアニールによるホウ素ドープアモルファスカーボン膜の局在－非局在転移
〇村岡 祐治1、中島 統晴2、大槻 太毅1、横谷 尚睦1、山神 光平3 (1.岡山大学術研究院、2.岡山大院環境生命自然科学、3.JASRI/Spring-8)
キーワード：
ホウ素ドープアモルファスカーボン、パルスレーザーアニール、局在－非局在転移
ホウ素ドープアモルファスカーボン膜にパルスレーザーアニール処理をすることで、局在から非局在状態への変化を実現した。電気抵抗率測定と放射光光電子分光測定の結果を用いて、金属化の実現および金属相における微視的な電子状態を示す。