講演情報
[8a-N102-3]深層学習による半導体光学物性の解析：分光エリプソメトリーと反射/透過測定法のポテンシャル比較
〇黒川 直暉1、馬場 彬大1、西永 慈郎2、石塚 尚吾2、鯉田 崇2、Hilfiker James3、藤原 裕之1 (1.岐阜大、2.産総研、3.J.A. Woollam Co., Inc.)
キーワード：
深層学習、分光エリプソメトリー、反射/透過測定法
深層学習は、半導体光学物性の高速評価法として期待され、分光エリプソメトリー（SE）および反射・透過測定（RT）への応用が進められている。しかし、SEとRTでは評価する物理情報が根本的に異なる。深層学習の予測精度は測定スペクトルの情報量と教師データ数に依存し、これらの入力情報を比較した事例は無い。そこで本研究では、1000万件の教師データを用いてSE、RT、SE+T、SE+RTを系統的に比較し、 SE+Tの有効性を初めて明らかにした。