講演情報
[8a-PA3-10]高χブロック共重合体による超微細ラメラ構造の形成とその配向特性
〇阿部 諒太1、志岐 優太1、岸本 瑞樹1、溝部 祐司1、菊池 誠也1 (1.三井化学㈱)
キーワード：
自己組織化、リソグラフィ、パターニング技術
誘導自己組織化（Directed Self-Assembly, DSA）は、微細なパターニングを可能とする次世代リソグラフィー技術として期待されている。発表者らは、ポリオレフィンとポリメタクリル酸メチルからなるブロックコポリマーが、自己組織化によりハーフピッチ6.5 nmのラメラ構造を形成することを見出した。さらに、形成されたラメラ構造の配向を詳細に検討した結果、シリコンウェハに対して垂直に配向していることが明らかとなった。