講演情報
[8a-PA3-4]曲面多層膜ミラー基板へ収差補正パターンを投影するマスクレス露光装置の開発
〇(B)坂本 星空1、Lucas Prevotel2、Eirini Papagiannouli2、豊田 光紀1 (1.東京工芸大工、2.Institut d’Optique.)
キーワード：
極紫外光、Mo/Si多層膜ミラー、リソグラフィ
EUV顕微鏡の回折限界結像に向け、曲面Mo/Si多層膜ミラーの最上層を局所エッチングして10 pm精度で波面補正する新手法を開発した。今回は、凹面ミラー上にレジストの領域指定マスクを生成する一括露光システムを報告する。i線マスクレス露光装置に独自の光学系（ケプラー型アフォーカル系と対物レンズ）を組み合わせて焦点距離と像面湾曲を独立制御し、凹面へ空間分解能50 µmでのパターン投影を可能にした。