[8a-PA3-1~13] 7 ビーム応用（ポスター）

[8a-PA3-9] 化学増幅系レジストにおける現像初期過程の分子動力学解析

〇多田 皓星¹、若松 大翔¹、安田 雅昭¹ (1.阪公大院工)

キーワード：

現像、レジスト、リゾグラフィ

現在のリゾグラフィ技術ではパターンサイズがレジスト分子の大きさと同程度になってきており、パターン形成の解析にも分子レベルのシミュレーションが求められる。本研究では、より高感度な露光を実現する化学増幅系レジストを対象に、分子動力学シミュレーションを実施して、現像初期過程における分子挙動の解析を行った。