講演情報
[8p-B11-14]形状シミュレーションとロバストベイズ最適化を用いた酸化膜埋め込み条件の効率的な探索
〇中山 沢陽1、横田 怜1 (1.キオクシア先端研)
キーワード：
安定なプロセス条件探索、溝構造への酸化膜埋め込み、ベイズ最適化
メモリ製造におけるプラズマ加工では、プラズマ中の反応種の空間分布のばらつきにより、加工形状を安定化させることが難しいという課題がある。安定な加工条件を効率的に探索するため、ばらつきを考慮したロバストベイズ最適化を開発した。プラズマCVDによる溝構造への酸化膜埋め込みを対象にこの有効性を形状シミュレーションにより検証した結果、一般的なベイズ最適化を用いて得られた最適条件では溝内に空隙が生じたが、ロバストベイズ最適化で得られた条件では確認されず、安定な条件を効率的に探索できることを示した。