講演情報

14:05 〜 14:35

[8p-B21-3]Beyond 2nm 半導体製造に向けた短TAT・クリーンプロセス装置技術開発

〇須川成利

半導体、製造技術

技術研究組合最先端半導体センター（LSTC）において、次世代半導体の短 TAT 量産基盤体制の構築実現に向けた要素技術研究の実施と研究成果の実用化に取り組んでいる。本講演ではBeyond 2nm 半導体製造に向けた短 TAT・クリーンプロセス装置技術開発についてその概要を紹介する。