講演情報
[8p-C309-6]光遺伝学用UCNP神経プローブのためのSU-8導波路一体型ナノメータ精度グレーティングカプラの作製
〇橘田 圭吾1、辻 一志1、岩沼 尚樹2、中村 彩千花3、福島 誉史1,2、田中 徹1,2 (1.東北大院医工、2.東北大院工、3.東北大工)
キーワード：
神経プローブ、光遺伝学、UCNP
光遺伝学用神経プローブの低侵襲化に向けて，ナノグレーティングカプラ（GC）を集積したワイヤレス・ファイバレス光遺伝学神経プローブを提案する。本研究では，熱ナノインプリントと表面マスク露光を組み合わせたSU-8導波路一体型GCの作製プロセスを開発し，熱工程に起因する寸法変形の影響を評価した。プリベーク時間およびPEB温度の最適化により，GC寸法を高精度に制御可能であることを示した。