[8p-E206-1~17] 7.1 X線技術

14:00 〜 14:15

[8p-E206-3] SchwarzschildミラーのLayer by Layerエッチングによる波面収差補正の検討

〇柴田 涼平¹、出口 雄一郎¹、宇治 駿¹、藤澤 悠太¹、田邉 貴大¹、豊田 光紀¹ (1.東京工芸大工)

キーワード：

Mo/Si多層膜ミラー、極紫外線

我々はEUV領域用Schwarzschildミラー(動作波長13.5nm)に用いる、Mo/Si多層膜ミラー最上部のlayer by layerエッチングによる精密波面制御を研究しており、NaOHとHNO₃を用いたMoとSi単層膜の選択的な除去が可能となった。本講演では、Schwarzschildミラーに残留する波面収差を好適に補正するための位置指定マスクの形状を検討した結果を報告する。