講演情報
[8p-E206-4]窒化バリア層によるMo/Si多層膜ミラーの高反射率化(2)
〇(M2)藤澤 悠太1、Maidul HAQUE1、宇治 駿1、柴田 涼平1、豊田 光紀1 (1.東京工芸大工)
キーワード：
反応性スパッタ、X線反射率計測、EUV反射率計測
波長13nm領域用のMo/Si多層膜ミラーでは界面拡散層の影響により直入射反射率が低減する。そこでMoとSiの各界面にN2反応性スパッタによるMo2Nをバリア層として付加する手法を試行している。Mo/Si 20周期多層膜ミラーのMo-on-Si界面への付加を行い、約3%の反射率向上を報告した。本講演では40周期で同手法を適応した多層膜ミラーのEUV反射率測定およびXRR測定の評価を報告する。