講演情報
[8p-PB2-15]内部電極付小形交互磁場印加高速原子ビーム源の性能評価
〇三好 勇貴1、日野 太智1、大島 京祐1、岡 智絵美1、櫻井 淳平2、山寺 喬紘3、秦 誠一1 (1.名大工、2.崇城工、3.NGK)
キーワード：
常温接合、表面活性化接合、高速原子ビーム源
高速原子ビーム源による表面活性化接合は，半導体の三次元積層等に期待される常温接合技術である．先行研究では電極の長寿命化のため交互磁場印加が提案され，著者らは接合装置に搭載可能な小形交互磁場印加高速原子ビーム源を開発してきた．本研究では除去性能の向上を目的に内部電極を搭載し，高電圧での動作と除去性能を評価した．その結果，安定動作を達成し，小形交互磁場印加高速原子ビーム源として最大の除去速度を得た．