[9a-C310-1~13] 6.4 薄膜新材料

11:30 〜 11:45奨励賞エントリー

[9a-C310-10] 水素化／脱水素化反応にともなう金属–半導体相変化による光・電気・熱物性制御薄膜の開発(15):
NdNiO₃薄膜の電気化学プロセスを用いた熱物性制御

〇岡本 晏¹、山下 雄一郎^1,2、八木 貴志^1,2、キム ミンソク¹、小口 有希³、竹歳 尚之^1,2、重里 有三¹ (1.青学大理工、2.産総研、3.青学大理工機器分析センター)

キーワード：

NdNiO3、水素化／脱水素化反応、電気化学プロセス