[9p-B31-1~8] 活性種制御・界面形成・機能創発：プラズマとカーボン系薄膜をつなぐ視点

14:40 〜 15:10

[9p-B31-4] ダイヤモンドウェハ作製におけるプラズマプロセスの現状と展望

〇山田 英明¹ (1.産総研)

キーワード：

ダイヤモンドウェハ

半導体材料としてのダイヤモンドの現状を概説するとともに、広く利用されているプラズマプロセスについて紹介し、今後の展望について述べる。