[9p-E101-1~7] 【一般公開】北の大地に立ち上がる最先端半導体産業

15:05 〜 15:35

[9p-E101-5] EUVリソグラフィの進化：Low-NA量産技術からHigh-NAイノベーション、そしてその先へ

〇永原 誠司¹ (1. ASMLジャパン)

キーワード：

EUV、Lithography、ASML

EUVリソグラフィは先端半導体製造の基盤技術として量産段階に入り、現在はHigh-NA EUVによるさらなる微細化が進展している。本講演では、EUV技術の黎明期からLow-NA EUV量産技術、High-NA EUVの最新動向、ダイステッチング技術、さらに将来のHyper-NA EUVの展望を紹介し、今後の半導体スケーリングを支えるリソグラフィロードマップについて議論する。