講演情報

14:30 〜 14:45

[9p-E203-5]立体構造に対する電子線描画法による精密パターン形成

〇(M1)大日方哲^1,2、板谷太郎²、乗木暁博²、岡野好伸¹、天野建² (1.都市大、2.産総研)

電子線描画、光導波路、等幅露光

高低差のある試料に対し、電子線描画を行う際に課題となる有効ドーズ量と線幅の変化について、線幅の設計データを補正する簡易的な手法を用いることにより、高さが4μm異なる場所でほぼ同じ線幅の結果が得られ、光導波路への適応が期待できる結果となった。