[9p-PA1-1~52] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[9p-PA1-3] Novel “Electrostatic Spray Deposition (ESD)” method to employ NiO thin films growth

〇Ibna Fysol^1,2,3、Sugiyama Mutsumi¹ (1.東京理科大学 理工学部 電気工学科、 千葉県野田市山崎2641、2.バングラデシュ、ダッカ県サバール郡ビルリア、カガン、シティ大学、電気電子工学科、郵便番号1340、3.100 バングラデシュ、ダッカ県サバール郡ビルリア、カガン、シティ大学、理工学部、郵便番号1340)

キーワード：

Thin film、Fabrication