2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会
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[9p-PB5-3]
イオン注入で作製したGaP:NのX線回折およびフォトルミネッセンスによる評価
〇(M1)松本 優世
1
、Rashid Md. Mamun-Or
1
、矢口 裕之
1
、八木 修平
1
(1.埼玉大学理工学研究科)
キーワード:
Ⅲ-Ⅴ族化合物窒化物半導体、太陽電池、イオン注入
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