講演情報
[15010]チャネル高分子流れにおける壁面せん断応力計測に関する研究
*浅岡 純平1、辻 義之1 (1. 名古屋大学大学院工学研究科エネルギー理工学専攻)
キーワード：
高分子添加流体、壁面せん断応力、電気化学的計測
高分子添加による抵抗低減メカニズム解明に向けて、壁面近傍の応力構造の理解は極めて重要である。本研究では、高分子添加流体を対象に、圧力損失測定から得られる平均壁面せん断応力と、物質輸送と運動量輸送のアナロジーを利用した電気化学的計測手法から得られる壁面せん断応力の比較検討を行った。チャネル乱流場において、複数の高分子濃度やRe数条件下における応力評価を実施した。その結果、高分子濃度の増加に伴い、圧力損失に基づく応力値に対して電気化学的計測に基づく応力値が相対的に小さくなるという有意な差異が生じることが確認された。この計測手法間の差異について、圧力損失が壁面における総応力を捉える一方で、電気化学的計測が壁面での速度勾配に由来する粘性応力を評価しているという仮説を提示する。応力の差分が壁面近傍における高分子応力項に起因する可能性について報告し、高分子が応力場に与える影響について議論する。