講演情報
[2504]ケイ酸共存下でのAs(III)汚染水に対するCa系吸着材の適合性評価
○杉田 創1、森本 和也1、斎藤 健志1、原 淳子1 (1. 国立研究開発法人 産業技術総合研究所)
司会： 土田恭平（産総研）
キーワード：
亜ヒ酸除去、ケイ酸、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム
通常の地下水中に溶存している可能性のある種類のヒ素の人体への毒性は，有機ヒ素よりも無機ヒ素の方が高く，無機ヒ素の中では5価のヒ素であるヒ酸よりも3価の亜ヒ酸の方が高いことが一般的に知られている。それゆえ，特にヒ素汚染水からの亜ヒ酸除去に関する知見を得ることは非常に重要である。一方，ヒ素汚染水に対するカルシウム系吸着材のヒ素除去性能は溶液中に溶存しているケイ酸の影響を強く受けることが既往の研究で報告されているが，ケイ酸を含有しているヒ素汚染水の溶液組成（ヒ素の価数，ヒ素濃度及びケイ酸濃度）の違いや吸着材添加濃度の違いによって，カルシウム系吸着材のヒ素除去性能がどの程度の影響を受けるかについての定量的な評価を行った研究報告はほとんどない。そこで，本研究では亜ヒ酸とケイ酸を溶存させた模擬汚染水を用いて，ケイ酸共存下でのカルシウム系吸着材による亜ヒ酸の除去挙動を調べ，ケイ酸共存下での亜ヒ酸除去に対するカルシウム系吸着材の適合性を評価した。