一般ポスターセッション

[P-028] 自動光安定性評価装置を用いた高分子材料の光酸化評価　 　　　～その4：熱劣化、光劣化品の酸化速度～

*高橋 真理子¹、鮫島 良太¹、豊永 匡仁¹、佐藤 哲¹、山田 理恵¹、田沼 逸夫¹、細田 覚² (1. 東北電子産業株式会社、2. 京都工芸繊維大学大学院)

キーワード：

ケミルミネッセンス、光酸化、光安定性

閲覧にはパスワードが必要です

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。