[2B15-19] Tritium Behavior

5:05 PM - 5:20 PM JST(8:05 AM - 8:20 AM UTC)

[2B19] Local depth profiling of tritium in W by an electrochemical etching method

*Teppei Otsuka¹, Yuya Ueno¹, Masato Konno¹ (1. Kindai Univ.)

Keywords:

Tritium,Tungsten,Electrochemical etching

プラズマ対向W材料中のトリチウム蓄積挙動を明らかにすることは安全上重要である。実験炉内で使用済みのW製タイルのトリチウム分析では、従来、コア抜きしたり、切断したりして小さなサンプルとすることが多かった。本研究では、電解エッチング手法を用いて、一定の過電圧を負荷し、腐食電流値をモニターしながらW表面を局所的に、かつ定量的に溶解するとともに、電解液中のトリチウム濃度を測定するための手法開発を行った。