[S2] Materials Science and high temperature processing of widegap materials 2

4:55 PM - 5:15 PM JST(7:55 AM - 8:15 AM UTC)

[S2.9] Crystal growth of AlN using Ni-Al flux

*ADACHI Masayoshi¹, KANBARA Arata¹, OHTSUKA Makoto¹, FUKUYAMA Hiroyuki¹ (1. Tohoku Univ.)

Keywords:

液相成長,窒化アルミニウム

Ni-AlをフラックスとしたAlN結晶の成長装置を構築し，AlN結晶の成長を試みた．実験の結果，1 hおよび24 hの成長時間でそれぞれ10 mm，20 mmの厚さの結晶を晶出させることに成功した．