[P] P83~P111

[P88] Relationship between pitting resistance and amount of desorbing H₂O for Ni passive film treated with film modification treatment

*Naoya Kanatani¹, Kaisei Tanabe¹, Youhei Hirohata², Takumi Haruna² (1. Kansai Univ., 2. Kansai Univ.)

Keywords:

電気化学測定,孔食,表面皮膜

電気化学的に形成させたNi不働態皮膜に，膜厚を変化させることなく脱離H₂O量が増加するとされる皮膜変質処理を行った場合の影響について調査した．その結果，皮膜変質処理を行うと孔食電位，脱離H₂O量が増加した．