Presentation Information
[P88]Relationship between pitting resistance and amount of desorbing H2O for Ni passive film treated with film modification treatment
*Naoya Kanatani1, Kaisei Tanabe1, Youhei Hirohata2, Takumi Haruna2 (1. Kansai Univ., 2. Kansai Univ.)
Keywords:
電気化学測定,孔食,表面皮膜
電気化学的に形成させたNi不働態皮膜に，膜厚を変化させることなく脱離H2O量が増加するとされる皮膜変質処理を行った場合の影響について調査した．その結果，皮膜変質処理を行うと孔食電位，脱離H2O量が増加した．
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