[P] P83~P111

[P88] 皮膜変質処理を行ったNi不働態皮膜の耐孔食性と脱離H₂O量の関係

*金谷 直哉¹、田邉 開世¹、廣畑 洋平²、春名 匠² (1. 関西大理工（院生）、2. 関西大化生工)

キーワード：

電気化学測定、孔食、表面皮膜

電気化学的に形成させたNi不働態皮膜に，膜厚を変化させることなく脱離H₂O量が増加するとされる皮膜変質処理を行った場合の影響について調査した．その結果，皮膜変質処理を行うと孔食電位，脱離H₂O量が増加した．