[P] P83~P111

[P96] Optical Characterization of Microstructured CuO Thin Films Prepared By Glancing-angle Reactive Sputtering

Yamato SAKAMOTO¹, *Kazusa OZAWA², Yasushi INOUE^1,2, Osamu TAKAI³ (1. Grad. Eng., Chiba Inst. Technol, 2. Sch. Eng., Chiba Inst．Technol, 3. SSAME)

Keywords:

反応性スパッタリング,酸化銅,エレクトロクロミック特性,微細構造,光学特性

斜入射反応性スパッタリング法により作製した酸化銅薄膜は，離散的柱状構造を有し，黒銅鉱型結晶構造で
(111−)/(001)に強く配向した．また，吸着誘起型エレクトロクロミック特性を示した．