[P] P83~P111

[P96] 斜入射反応性スパッタリング法により作製した微細構造化CuO薄膜の光学的特性評価

坂本 大和¹、*小沢 一颯²、井上 泰志^1,2、高井 治³ (1. 千葉工大院工、2. 千葉工大工、3. 表面・超原子研)

キーワード：

反応性スパッタリング、酸化銅、エレクトロクロミック特性、微細構造、光学特性

斜入射反応性スパッタリング法により作製した酸化銅薄膜は，離散的柱状構造を有し，黒銅鉱型結晶構造で
(111−)/(001)に強く配向した．また，吸着誘起型エレクトロクロミック特性を示した．