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[3A2-101]トリプル四重極型ICP-MSによる多結晶シリコン表面の極微量リン分析時のスペクトル干渉のメカニズムについて

○河野 利哉1、M.B. シャバニー1、橋本 侑宜2 (1. 三菱マテリアル(株)、2. 高純度シリコン(株))

Keywords:

ICP-MS,シリコン,極微量,リン