[20a-A301-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

9:00 AM - 9:15 AM JST(12:00 AM - 12:15 AM UTC)

[20a-A301-1] Development of spin droplet cleaning technology that enables highly uniform cleaning

〇Kazumasa Nemoto¹, Takashi Yajima², Noriko Miura², Kazushige Sato², Shiro Hara^1,2,3 (1.AIST, 2.Minimal Fab, 3.Hundred)

Keywords:

Minimal Fab

ミニマルファブでの洗浄装置では、ウェハを保持するウェハステージにリングを装着する事によりウェハ表面と裏面の表面張力が連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、両面洗浄が可能になる。但し、疎水性が強く働く薬液ではウェハ外周部に保持できる液量が減り、さらにウェハ中央部の液が置換されず洗浄効率が悪いという問題が有った。今回、液体吐出ヘッドの形状改良と面内均一性の高い洗浄を可能にする方法論を開発した。