Presentation Information
[20a-A501-5]Molecular dynamics study of early stages of development process for negative type resists in electron beam lithography
〇(M1)Ryuki Tanaka1, Kaito Ymada1, Masaaki Yasuda1 (1.Osaka Metropolitan Univ.)
Keywords:
electron beam lithography,resist,molecular dynamics
現在のリソグラフィ技術では、パターン形成の解析に分子レベルのシミュレーションが必要となっている。我々はネガ型レジストを対象として、電子線リソグラフィにおけるパターン形成の過程を再現する分子動力学シミュレーションを開発した。本研究では、現像過程をより厳密に再現するために、解析系に現像液分子を導入し、現像の初期過程におけるレジスト分子と現像液分子の相互作用を解析したので報告する。