[20a-P01-1~14] 6.2 Carbon-based thin films

[20a-P01-8] Deposition of amorphous carbon films by magnetron sputtering with neodymium magnets

〇Rio Komatsubara¹, Kouji Tamada², Yuki Hirata¹, Naoto Ohtake¹, Hiroki Akasaka¹ (1.Tokyo Institute of Technology, 2.National Institute of Technology, Tokyo College)

Keywords:

Neodymium magnets,Amorphous carbon films,Magnetron sputtering

ネオジム磁石を用いたマグネトロンスパッタリング源を設計製作し，エチレングリコール水溶液で磁石を-5～5℃で冷却し，磁力を保持させながらアモルファス炭素膜の作製を試みた.30 Wの印可電力ですでに膜を得ることができた．印可電力が低いほど膜は黒く, 電力を上昇させると色が変化した. 堆積速度は印可電力の上昇に伴い，上昇した．一方，硬さは, 50 W の時に最も大きな値を示した.