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[20p-C301-11]Evaluation of Epitaxial NbTaN Films with TiN Buffer by IBS Deposition

〇Kazumasa Makise1,2,3, Hirotake Yamamori3, Fusao Ichikawa4, Takafumi Kojima1,2, Yoshinori Uzawa1,2 (1.NAOJ, 2.SOKENDAI, 3.AIST, 4.Kumamoto Univ.)

Keywords:

Superconductor,thin film

ALMA2プロジェクトにおいてSISミキサの高性能化を進めている。バンド10ミキサはNbTiN膜上にNb接合形成し、Alで配線されている。高周波特性の向上のためにはωCR積を小さくする必要があり、現行の10kA/cm2より2倍以上の臨界電流密度(JC)かつリークの少ない高品質な接合の実現を目指している。そこで今回我々はNbTaN膜の可能性について調査した。