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[21a-B201-8]Osteoblast behaviors in electrical stimulating culture on SiC-coated carbon nanowalls

〇Koki Ono1, Hiroki Kondo1,2, Kenji Ishikawa1,2, Wakana Takeuchi3, Kenichi Uehara4, Shigeo Yasuhara4, Masaru Hori2, Hiromasa Tanaka1,2 (1.Nagoya Univ. Eng., 2.Nagoya Univ. cLPS, 3.Aichi Inst. Tech., 4.Japan Advanced Chemicals Ltd.)

Keywords:

Carbon nanowalls,Cell culture scaffold,Silicon carbide

カーボンナノウォール(CNW)はグラフェンシートが基板に対して垂直に配向したナノ構造材料であり、新しい細胞培養足場として注目されている。本研究ではCNWのエッジにSiCを被覆し、電気刺激を印加することで、CNWのエッジ形状と電気刺激の相乗効果を明らかにした。またこの時、SiCの成膜中にAlをIn-situ添加することで、SiCの電気伝導度を向上させた。