Presentation Information
[21a-P03-2]MgH2 epitaxial thin film growth by effectively using active hydrogen
〇(M1)Yuki Shimoman1, Kota Munefusa1, Takayuki Harada2, Hiroyuki Oguchi1 (1.Shibaura Tech., 2.NIMS)
Keywords:
hydride,active hydrogen,infrared laser deposition method
1族・2族金属水素化物MHxは、機能性材料としての高い潜在性を有するため、MHxの高品質薄膜化は新規なデバイス開発につながり得る。我々はこれまで、赤外レーザー蒸着法によるMHx高品質薄膜合成に取り組み、最近のLiHの研究で、完全なエピタキシャル薄膜の合成には、活性水素の利用が鍵となることを実証した。本研究では、LiHよりも合成難易度の高いMgH2のエピタキシャル薄膜に挑戦し、成膜時の活性水素量の膜質への影響を調査した。