[21p-A307-1~23] 6.3 Oxide electronics

3:30 PM - 3:45 PM JST(6:30 AM - 6:45 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[21p-A307-10] Observation of competitive adsorption of DMZ and TDMAT in composite oxide atomic layer deposition

〇Haruto Suzuki¹, Ryo Miyazawa¹, Masanori Miura¹, Fumihiko Hirose¹ (1.Yamagata Univ.)

Keywords:

atomic layer deposition,composite oxide,semiconductor process

本研究では酸化亜鉛の原料であるDMZと酸化チタンの原料であるTDMATを室温原子層堆積法を用いて連続吸着させた。反応速度を求めるために連続吸着を赤外吸収分光法でその場観察した。また、各原料ガス照射量のサンプルのZn/Ti原子比を測定したところ、後照射のTDMATの量と原子比の関係はラングミュアの等温吸着式を修正した２サイト吸着モデルで表され、その組成比は計算で推定できることが分かったため報告する。