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[21p-A307-15]Electrical conductivity control of PLD deposited amorphous niobium oxide thin flim by excimer laser irradiation

〇(M2)Itsuki Osawa1, Kenta Kaneko1, Satoru Kaneko2,1, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:

amorphous,niobium oxide,excimer laser

新規熱電材料の創製を目的に、非晶質酸化ニオブ薄膜の導電性制御を検討した。熱電特性の向上のためには、電気伝導性向上と同時に熱伝導率の低減が求められるが、本研究では原子量が大きくアモルファス状態をとることができる酸化ニオブに着目した。非晶質酸化ニオブの導電性向上のために、エキシマレーザー照射による後処理を検討した。その結果、抵抗率は約60%低減した。これは、Nbイオンの価数変化等が関連していると考えられる。