講演情報
[21p-A307-15]アモルファス酸化ニオブ系薄膜におけるエキシマレーザー照射による導電性制御
〇(M2)大澤 樹1、金子 健太1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)
キーワード：
非晶質,酸化ニオブ,エキシマレーザー
新規熱電材料の創製を目的に、非晶質酸化ニオブ薄膜の導電性制御を検討した。熱電特性の向上のためには、電気伝導性向上と同時に熱伝導率の低減が求められるが、本研究では原子量が大きくアモルファス状態をとることができる酸化ニオブに着目した。非晶質酸化ニオブの導電性向上のために、エキシマレーザー照射による後処理を検討した。その結果、抵抗率は約60%低減した。これは、Nbイオンの価数変化等が関連していると考えられる。