[21p-P22-1~2] 3.14 Silicon photonics and integrated photonics (formerly 3.15)

[21p-P22-1] Photonic crystal silicon nanocavities fabricated by Cl2 plasma etching

〇(M2)Masaaki Katsura¹, Yoshihisa Umeno², Takeshi Minaguchi², Wataru Takahama¹, Takashi Asano³, Susumu Noda³, Yasushi Takahashi¹ (1.Osaka Met. Univ., 2.SAMCO, 3.Kyoto Univ.)

Keywords:

silicon high-Q nanocavity,plasma etching,photonic crystal

我々が研究している高Q値ナノ共振器を用いた超低閾値Siラマンレーザにおいて、励起モードでのQ値が設計から期待される値よりも低くなる問題があった。前回、低下の原因は、フッ素系ガスを使用したプラズマエッチング時に、空気孔側壁から入り込む不純物イオンによる光吸収損失であることを報告した。今回、吸収損失の低減を目的に、塩素プラズマエッチングによるナノ共振器作製を初期検討したので報告する。