[21p-P22-1~2] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

[21p-P22-1] 塩素プラズマエッチングを用いたシリコンナノ共振器作製の検討

〇(M2)桂 正晃¹、梅野 禎久²、水口 武²、髙濵 渉¹、浅野 卓³、野田 進³、高橋 和¹ (1.大阪公大院工、2.SAMCO、3.京大院工)

キーワード：

高Q値シリコンナノ共振器,プラズマエッチング,フォトニック結晶

我々が研究している高Q値ナノ共振器を用いた超低閾値Siラマンレーザにおいて、励起モードでのQ値が設計から期待される値よりも低くなる問題があった。前回、低下の原因は、フッ素系ガスを使用したプラズマエッチング時に、空気孔側壁から入り込む不純物イオンによる光吸収損失であることを報告した。今回、吸収損失の低減を目的に、塩素プラズマエッチングによるナノ共振器作製を初期検討したので報告する。