Presentation Information
[22a-A304-5]Deposition of High-Performance ITO Nanoparticles Utilizing Mist Deposition under Atmospheric Conditions
Ryoko Suzuki1, 〇Yasutaka Nishi1, Masaki Matsubara2, Atsushi Muramatsu2, Kiyoshi Kanie2 (1.Nikon Corp., 2.Tohoku Univ.)
Keywords:
Mist deposition,ITO nanoparticles,transparent conductive film
本研究ではミストデポジション法によりITOナノ粒子を成膜した。この方法は溶液を原料とする湿式成膜法であり、大気雰囲気での成膜が可能である。一方で、原料溶液であるナノ粒子分散液には一般に分散剤が含まれており、膜中で残留することが課題であった。これらの除去には高温焼成が効果的であるが、低融点基板への実施は困難である。そこで単独で水に単分散するITOナノ粒子を開発し、本成膜手法にて低融点基板に成膜を行った。