講演情報
[22a-A304-5]ミストデポジションによる高性能ITOナノ粒子の大気圧成膜
鈴木 涼子1、〇西 康孝1、松原 正樹2、村松 淳司2、蟹江 澄志2 (1.（株）ニコン、2.東北大学)
キーワード：
ミストデポジション,ITOナノ粒子,透明導電膜
本研究ではミストデポジション法によりITOナノ粒子を成膜した。この方法は溶液を原料とする湿式成膜法であり、大気雰囲気での成膜が可能である。一方で、原料溶液であるナノ粒子分散液には一般に分散剤が含まれており、膜中で残留することが課題であった。これらの除去には高温焼成が効果的であるが、低融点基板への実施は困難である。そこで単独で水に単分散するITOナノ粒子を開発し、本成膜手法にて低融点基板に成膜を行った。