Presentation Information
[22a-C401-3]Photobleaching of Ge-related defects
〇(M2)Maya Osakabe1, Kouta Takahashi1, Kazuya Saito1 (1.Toyota Tech Inst.)
Keywords:
silica glass,defects
Geを添加したシリカガラスにおいて、Ge関連欠陥はX線や紫外線照射によって生成され、ファイバデバイスなどに応用されている。しかし、一方でこれらの欠陥は特定の波長の光を照射することで消失することが知られてている。しかしその機構や照射波長依存性など未解明の点が多い。そこで本研究はGe添加シリカガラスにX線を照射して欠陥を生成し、その後青色LD照射による欠陥消失過程を調べた。